Product Info
- CELLFA
- 탁상형 고순도 질소발생기
- NX-C200HD
- NX-C150HD | C200-1TD
셀에프에이의 NX-C200HD는 탁상형 초소형 고순도 질소발생기의 상위 모델로, 외형은 NX-C150HD와 동일하지만 성능이 더욱 향상되었습니다.
멤브레인 방식으로 95 ~ 99.5%의 고순도 질소를 안정적으로 생산하며, 압력 조건에 따라 최대 유량은 20 LPM 이상까지 가능합니다.
콤프레샤 공기와 직접 연결해 실시간 질소 공급이 가능하므로, 기존의 액화질소나 실린더 교체에 따른 시간·비용 부담을 제거합니다. 경량 설계(8kg 이하)와 290×320×280 mm의 콤팩트 사이즈로 좁은 공간에도 설치 가능하며, 실험실, 의료기기, 반도체, 레이저 가공, 포장 산업 등 다양한 분야에 이상적입니다.
유량 및 순도를 자유롭게 조절할 수 있어 공정별 요구치에 맞춘 운전이 가능하며, 에너지 효율과 유지보수 비용을 최소화한 경제적인 솔루션입니다.
고압 용기 운반과 보관의 위험 없이 안전한 질소 공급을 실현하는 NX-C200HD는 고성능이 요구되는 현장에 최적화된 선택입니다.
고성능 유량 – 20 LPM 이상 질소를 안정적으로 생산합니다
고순도 유지 – 95 ~ 99.5%의 질소 순도를 제공합니다
연속 공급 – 끊김 없는 질소 공급을 실시간으로 보장합니다
유지 비용 절감 – 액화질소 및 실린더 운영비용을 감소시킵니다
안전 운용 – 고압 용기 없이 안전하게 질소를 제공합니다
공간 절약 – 소형 설계로 좁은 공간에도 설치 가능합니다
제품 세부 사양
| 구분 | NX-C200HD | NX-C150D | 비고 |
|---|---|---|---|
| 크기 | 290(W) × 320(D) × 280(H) mm | 측면 피팅 및 고무발, 압력계 포함 사이즈 | |
| 질소가스의 순도 | 95.0 ~ 99.5% | ||
| 질소가스의 생산량 | 28.0 ~ 5.0 LPM | 18.1 ~ 3.3 LPM | 0.6MPa 기준 |
| 에어 공급 압력 | 0.5MPa 이상 | 적정 최소 공급 압력 | |
| 질소가스 토출 압력 | 인입에어보다 같거나 낮게 조정가능함 | ||
| 질소생산 방식 | 멤브레인 방식 | ||
| 제품 무게 | 8kg 이하 | ||
← 좌우로 스와이프하여 더 보기 →
※ 위 사양은 사전 예고 없이 변경될 수 있습니다.
NX-C200D vs NX-C150D 질소발생 성능 비교
| 구 분 | NX-C200HD (질소 유량, LPM) | NX-C150D (질소 유량, LPM) | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 압 력 | 산소순도(%) | 0.5% | 1.0% | 2.0% | 3.0% | 5.0% | 0.5% | 1.0% | 2.0% | 3.0% | 5.0% |
| 0.5MPa | 질소 | 3.8 | 6.2 | 9.8 | 13.5 | 21.5 | 2.5 | 4.1 | 6.5 | 9.0 | 14.3 |
| 공기 | 28.8 | 32.4 | 36.2 | 41.0 | 50.0 | 19.2 | 21.6 | 24.1 | 27.3 | 33.3 | |
| 0.6MPa | 질소 | 5.1 | 8.1 | 13.2 | 18.2 | 28.1 | 3.3 | 5.0 | 8.3 | 11.5 | 18.1 |
| 공기 | 39.3 | 42.6 | 48.9 | 55.1 | 65.3 | 23.6 | 26.3 | 30.7 | 34.9 | 43.1 | |
| 0.7MPa | 질소 | 6.0 | 9.5 | 15.5 | 21.2 | 32.7 | 4.0 | 6.0 | 9.9 | 13.9 | 21.7 |
| 공기 | 46.2 | 49.8 | 57.2 | 64.1 | 76.1 | 26.6 | 30.0 | 36.6 | 42.1 | 51.7 | |
← 좌우로 스와이프하여 더 보기 →
※ 위 사양은 사전 예고 없이 변경될 수 있습니다.
